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納米壓印系統(tǒng)-光刻機

簡要描述：納米壓印系統(tǒng)-光刻機
介紹了一個臺式、獨立的納米壓印平臺。該平臺提供了一個帶有微型定位夾具的機械平臺，用于安裝納米壓印室、紫外線固化

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：代理商
更新時間：2024-12-10
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光刻機，勻膠機

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納米壓印系統(tǒng)-光刻機

引入了一個臺式、獨立的NanoImprint平臺。
這個平臺提供了一個帶有微型定位夾具的機械平臺，用于安裝納米壓印室、紫外線固化源和校準顯微鏡。

它既可以作為納米壓印系統(tǒng)，也可以作為傳統(tǒng)的掩模校準器，同時為整個壓印過程提供可編程的自動控制。

我們納米壓印系統(tǒng)-光刻機的優(yōu)勢
•低于10納米分辨率，99%的產(chǎn)量
•支持硬模具和軟模具
•可變模具和基板尺寸提供的便利性和靈活性
•自動釋放工藝可防止分離過程中的模具/基板損壞，并最大限度地提高每個印記的產(chǎn)量。
•自動釋放工藝可防止分離過程中的模具/基板損壞，并最大限度地提高每個印記的產(chǎn)量。
•適用于各種應用的多功能流程：
•光學設備、顯示器、數(shù)據(jù)存儲、生物醫(yī)學
•器件、半導體集成電路、化學合成和先進材料
•帶觸摸屏用戶界面的可編程PLC允許通過定制參數(shù)進行過程控制
•專有的紫外固化納米壓印膠對硬度或厚度沒有限制，并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容。

納米壓印系統(tǒng)-光刻機

納米壓印技術(shù)分為三個步驟。

第一步是模板的加工。一般使用電子束刻蝕等手段，在硅或其他襯底上加工出所需要的結(jié)構(gòu)作為模板。由于電子的衍射極限遠小于光子，因此可以達到遠高于光刻的分辨率。

第二步是圖樣的轉(zhuǎn)移。在待加工的材料表面涂上光刻膠，然后將模板壓在其表面，采用加壓的方式使圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上。注意光刻膠不能被全部去除，防止模板與材料直接接觸，損壞模板。

第三步是襯底的加工。用紫外光使光刻膠固化，移開模板后，用刻蝕液將上一步未去除的光刻膠刻蝕掉，露出待加工材料表面，然后使用化學刻蝕的方法進行加工，完成后去除全部光刻膠，最終得到高精度加工的材料。

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